玻璃棉卷氈憎水處理系統(tǒng) 憎水劑噴涂機(jī)是將憎水劑滲透進(jìn)入纖維間的微孔隙,固化后在孔隙表面形成納米級(jí)疏水膜,減少水汽通過毛細(xì)作用滲透的通道,同時(shí)保持纖維間孔隙的保溫性能(憎水率≥98%)
偶聯(lián) 劑涂布機(jī) 硅烷偶聯(lián)劑氣相沉積系統(tǒng)應(yīng)用方法指通過表面預(yù)處理方式,改善材料界面性能的技術(shù),其核心機(jī)制依賴于硅烷分子的水解縮合及與基材的化學(xué)鍵合作用.
實(shí)驗(yàn)室HMDS專用烘箱 小型HMDS處理烤箱解決光刻膠附著力不足問題,同時(shí)增強(qiáng)光刻圖形的完整性.
大型HMDS真空烘箱,4門HMDS真空烤箱 是半導(dǎo)體光刻工藝中的關(guān)鍵設(shè)備,主要用于基片表面預(yù)處理,通過六甲基二硅氮烷(HMDS)涂布增強(qiáng)光刻膠與基片的黏附性。
硅烷沉積設(shè)備 抗粘劑蒸鍍系統(tǒng) 納米抗粘設(shè)備通過表面修飾的模板,可以大大降低模板與壓印聚合物層之間的相互作用力,在納米壓印過程中實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)較好的轉(zhuǎn)移,復(fù)制.
抗黏劑蒸鍍機(jī) 抗粘劑涂膠機(jī) 硅烷氣相鍍膜機(jī)通過精確控制烘箱溫度(100-200℃)、處理時(shí)長(zhǎng)及保持時(shí)間等參數(shù),使氮烷(HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三氯硅烷)沉積在襯底表面,生成疏水性的保護(hù)層,,將親水基片轉(zhuǎn)化為疏水性。該過程有效增大處理后的基片接觸角,減少光刻膠使用量約30%,同時(shí)提升膠層與基片的黏附強(qiáng)度?。