玻璃棉卷氈憎水處理系統 憎水劑噴涂機是將憎水劑滲透進入纖維間的微孔隙，固化后在孔隙表面形成納米級疏水膜，減少水汽通過毛細作用滲透的通道，同時保持纖維間孔隙的保溫性能（憎水率≥98%）

偶聯 劑涂布機 硅烷偶聯劑氣相沉積系統應用方法指通過表面預處理方式,改善材料界面性能的技術，其核心機制依賴于硅烷分子的水解縮合及與基材的化學鍵合作用.

表面改性疏水處理設備用蒸汽涂覆（Vapor Prime）將 疏水劑均勻覆蓋在產品表面；

實驗室HMDS專用烘箱 小型HMDS處理烤箱解決光刻膠附著力不足問題,同時增強光刻圖形的完整性.

大型HMDS真空烘箱，4門HMDS真空烤箱 是半導體光刻工藝中的關鍵設備，主要用于基片表面預處理，通過六甲基二硅氮烷（HMDS）涂布增強光刻膠與基片的黏附性。

硅烷沉積設備 抗粘劑蒸鍍系統 納米抗粘設備通過表面修飾的模板,可以大大降低模板與壓印聚合物層之間的相互作用力,在納米壓印過程中實現結構較好的轉移,復制.

抗黏劑蒸鍍機 抗粘劑涂膠機 硅烷氣相鍍膜機通過精確控制烘箱溫度（100-200℃）、處理時長及保持時間等參數，使氮烷（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三氯硅烷）沉積在襯底表面，生成疏水性的保護層，，將親水基片轉化為疏水性。該過程有效增大處理后的基片接觸角，減少光刻膠使用量約30%，同時提升膠層與基片的黏附強度?。