無塵烘箱，晶圓無塵烤箱

無塵烘箱，晶圓無塵烤箱用途:

   無塵烘箱，晶圓無塵烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫藥、實驗室等生產及科研部門；也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。

技術參數：

  無塵等級：Class 100、10;     

 溫度范圍：RT+10～300℃；
 溫度均勻度：±2℃;    

 溫度波動度：±0.5℃（空載）        
 溫控精度：±0.1℃;        

 工作室尺寸：W1600×D1600×H1000（mm）  （可定做）   
 電源：380v , 50Hz，16KW    

 網板：2塊（高度可調節)

特點：
1.在普通環境下使用，能夠確保烘箱內部等級達到Class 100；
2.全周氬焊，耐高溫硅膠破緊，SUS304#不銹鋼電熱生產器，防機臺本身所產生微塵；
3.采平面水平由后向前送風熱風循環系統，風源由循環馬達運轉帶動風輪經電熱器，將熱風由風道送至烤箱內部，且將使用后空氣吸入風道成為風源再度循環加熱，省電節能溫度均勻性好，過濾效率99.99%，Class 100；
4.強制送風循環方式。雙風道循環結構，溫度場分布均勻，智能P.I.D溫控系統，優良的溫度控制精度。

智能型HMDS烘箱，全自動HMDS預處理系統

智能型HMDS烘箱，全自動HMDS預處理系統的重要性：
  光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。  在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。

智能型HMDS烘箱，全自動HMDS預處理系統主要技術性能：

電源電壓：AC 220V±10%/50Hz±2%

輸入功率：2500W

控溫范圍：RT+10℃-250℃

溫度分辨率：0.1℃

溫度波動度：±0.5℃

達到真空度：133Pa（1torr）

工作室尺寸（mm）：450*450*450、350*350*350（可自定義）

智能型HMDS烘箱，全自動HMDS預處理系統的*性：

預處理性能更好，更加均勻；效率高,一次可以處理多達4盒的晶片；更加節省藥液；低液報警、防藥液泄漏等具有很強的安全保護功能；，有可自動吸取添加HMDS功能，智能型的程式設定，一鍵完成作業。

上海雋思儀 器制造熱風循環烘箱，潔凈烘箱，無塵烘箱，厭氧烘箱，高溫無塵固化烤箱，PI膠固化烤箱，BCB膠固化烤箱，無塵無氧烤箱，HMDS烘箱、HMDS預處理烘箱，真空涂膠烤箱，百級烘箱等設備。